SECURE PHOTON GATEWAY

$25,000

您正在接入 Photon Axis 光刻研发精算智库。此操作需通过主权级硬件加密验证,允许调取 13.5nm 极紫外波段下的光学系统精算档案与核心供应链确权模型。

研发机构身份验证

符合 2025 全球半导体知识产权与贸易审计准则

Photon Axis

全球光刻研发精算智库

PHOTON AXIS - High-NA EUV、浸没式光刻与纳米压印底层确权

资深研究员

$4,500 / 年

开放 1.1 万个光刻研发精算词条,包含每日更新的先进制程工艺良率审计档案。

调取研发授权

机构接入

$25,000 / 季

支持 50 个终端接入,包含 High-NA 光源 API 实时参数推送与专属定制确权服务。

申请接入
AXIS-ARCHIVE: PA-21501

High-NA EUV 光刻机 0.33 与 0.55 数值孔径分辨率精算

AXIS-ARCHIVE: PA-21502

浸没式光刻 ArFi 双重曝光工艺中的叠对误差补偿模型

AXIS-ARCHIVE: PA-21503

极紫外光 EUV 反射镜多层钼硅 Mo/Si 涂层反射率审计

AXIS-ARCHIVE: PA-21504

激光等离子体 LPP 射线源转换效率与锡滴发生器稳定性

AXIS-ARCHIVE: PA-21505

光刻掩模版 Pellicle 防尘薄膜在 600W 功率下的耐热性

AXIS-ARCHIVE: PA-21506

纳米压印光刻 NIL 模板寿命与残留层厚度 (RLT) 均匀性

AXIS-ARCHIVE: PA-21507

磁悬浮工件台双工作台双向扫描速度与定位精度审计

AXIS-ARCHIVE: PA-21508

光刻胶在 13.5nm 波长下的线边缘粗糙度 (LER) 优化模型

AXIS-ARCHIVE: PA-21509

光学邻近效应校正 OPC 算法在 2nm 制程中的计算效率

AXIS-ARCHIVE: PA-21510

电子束光刻 EBL 直接书写吞吐量与掩模版制备成本精算

AXIS-ARCHIVE: PA-21511

氟化氩 ArF 激光器脉冲能量稳定度与光谱带宽控制审计

AXIS-ARCHIVE: PA-21512

浸没式光刻系统超纯水循环折射率波动对焦深的影响

AXIS-ARCHIVE: PA-21513

步进扫描式光刻机掩模台与工件台动态同步误差精算

AXIS-ARCHIVE: PA-21514

极紫外光能量损失与真空腔体气体吸收系数审计报告

AXIS-ARCHIVE: PA-21515

自对齐多重曝光 SAQP 工艺在金属层互联中的 pitch 缩减

AXIS-ARCHIVE: PA-21516

光刻工艺控制网格 APC 在良率爬坡阶段的校准模型

AXIS-ARCHIVE: PA-21517

反射式掩模版缺陷检测技术与相移掩模 PSM 设计精算

AXIS-ARCHIVE: PA-21518

光刻机内环境化学过滤系统对 AMC 气态污染物的阻截

AXIS-ARCHIVE: PA-21519

多波段光源对准系统在不同薄膜背景下的对比度审计

AXIS-ARCHIVE: PA-21520

光刻机搬运机器人晶圆传输效率与颗粒污染防护水平